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[其他服务] 一氧化硅-性能介绍

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一氧化硅-性能介绍
一氧化硅分子量44.09,密度2.1,熔点1702℃,在10-2Pa真空下的蒸发温度为850℃。可用钨、钼、钽舟加热蒸发,用电子束加热蒸发效果很好。
一氧化硅薄膜的透明区为0.5~8μm,8μm以上吸收增加。一氧化硅薄膜的折射率与蒸镀参数密切相关,在高真空中快速蒸发其折射率较高,低真空中慢速蒸发其折射率较小。
一氧化硅薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,在光学薄膜中具有广泛的应用,它不但可以用于铝前面反射镜的保护膜,多层减反射膜,还可以用于红外光学元件的减反射膜。
另外一氧化硅薄膜对氧气、水汽、气味等具有良好的阻气性,淀积在塑料膜上形成阻气膜,用于食品、药品、精密电子部件等的包装上。
爱特斯光学一氧化硅块料月产量能达到5-6吨,并且在逐步上升中;生产技术处于行业领先。稳定的品质,齐全的规格,充足的供货量,给客户提供多样化的选择,及时的供货。

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